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想玩金刚石的朋友看过来
航模发烧友
6年8个月前
回复于跳蚤市场
用这个做气相沉积法的晶种
单晶硅片的镀膜工艺(丐版)
文中的工艺涉及气相沉积,但由于气相沉积板块指明为MPCVD相关,故笔者选择将本文发表于晶体养成版,原因显而易见:单晶硅是晶体,在单晶硅上沉积的金属膜也是晶体,所以本实验的最终成果为在单晶硅表面培养另一种金属的单晶
太神奇!飞秒激光技术新进展(转)
paclab
11年0个月前
回复于物理
为啥不直接用聚四氟乙烯来做化学气相沉积呢?国外已经有大规模实用例子了
文献:碲锌镉晶体的制备方法
杂工1544
4年9个月前
回复于晶体养成所
稍不那么离谱一点的路子或许是气相沉积多晶薄膜?不知道多晶体能不能用。
个人能否自制CPU?
小俊
17年5个月前
回复于电子技术
像气相沉积、离子注入这些需要很高技术地,而且用的原料都很毒。
Re:回 2楼(ehco) 的帖子
ehco
15年1个月前
回复于喷气推进
不锈钢内部用气相沉积铱锇合金
章鱼wheat
2年8个月前
电文查看详情
震惊,禁止访问的板块id为2 的是 气相沉积 11 的是 XXX所12 的是 XXXX所13 的是 高XXX26 的为土木XX
Re:Re:回 2楼(ehco) 的帖子
拔刀斋
15年1个月前
回复于喷气推进
引用第10楼ehco于2011-12-08 23:50发表的 Re:回 2楼(ehco) 的帖子 :不锈钢内部用气相沉积铱锇合金 合金层只能抗氧化。不锈钢受得了这个温度吗?估计要一部分气膜冷却
DIY底馈式MPCVD法实验室培育钻石合成炉
杂工1544
5年0个月前
回复于晶体养成所
考虑到SiC晶体结构和某些性质类似于钻石,且当前关于其生长的报道大多数都是气相沉积……倒是搜到了一些MPCVD SiC薄膜的资料,但是没有生长体块晶体的中文报道。
制造人工钻石 高温高压的设备是不是很贵。
refinder
10年7个月前
回复于机械与工具
目前最好的办法是用气相沉积的方法,该方法不需要高温高压,相当于生长钻石,而且速度很快。目前只有少数研究机构掌握该方法,国内上海某研究所已经做出来了。youtube上有个纪录片讲这个事情的。
太神奇!飞秒激光技术新进展(转)
航模发烧友
11年0个月前
回复于物理
引用 paclab:为啥不直接用聚四氟乙烯来做化学气相沉积呢?国外已经有大规模实用例子了 方式不一样吧!
探秘CVD合成钻石
流落到四川
7年3个月前
发表于晶体养成所
当这种晶体生长过程中需要化学反应,称之为化学气相沉积法(CVD);当晶体按照物理过程生长,则称之为物理气相沉积法(PVD)。
世界上最硬的化合物 --  氮化碳
mithril
18年1个月前
发表于极客DIY
在理论的预言下,人们采用各种手段试图在实验室合成出这种新的低密度高硬度的非极性共价键化合物,常用的制备方法有震荡波压缩、高压热解、离子注入、反应溅射、等离子体化学气相沉积、电化学沉积、离子束沉积、低能离子辐射
邹广田院士团队到访科创第三实验室
科创喵
2年11个月前
发表于科创动态
邹院士团队考察了微波等离子体气相沉积(MPCVD)技术装备等在研技术和产品,并就研发工作悉心指教。与实验室有关同学围绕装备发展、科技创新、人才培养等话题开展了深入交流。
谈谈人造金刚石技术的新进展-实验室培育钻石
虎哥
7年7个月前
发表于晶体养成所
在1980年代初出版的《人造金刚石工艺学》上,已经注意到了另一种方法的前景,即化学气相沉积法。
微波等离子体原理优势以及应用
流落到四川
7年3个月前
发表于晶体养成所
这个特性,在气相沉积的情况下,可使基底的温度不会过高。3.能在高气压下维持等离子体。4.没有内部电极,在等离子容器内,没有工作气体以外的任何物质,是洁净的,无污染源。等离子发生器可以保持长寿命。
Re:Re:Re:回 2楼(ehco) 的帖子
ehco
15年1个月前
回复于喷气推进
都是采用气相沉积来做的,沉积的厚度可不是你所想象的um量级。这个是老外山寨的无冷却发动机,外面的310在真正使用的时候是要除去的。
中国人造金刚石行业发展现状-2018年国内人造金刚石产销量及进出口数据
流落到四川
7年3个月前
发表于晶体养成所
人造大单晶金刚石可通过CVD(化学气相沉积)法和 HPHT(高温高压处理)方法生产,又称为“实验室培育钻石”,目前的生产技术水平使得人造金刚石已经达到可与天然金刚石相媲美的程度,通过工艺的控制,甚至在晶型上能比天然金刚石更加完美
第一届科创杯化学晶体制作大赛正式开始报名
哈哈哈哈哈士奇
7年4个月前
发表于晶体养成所
基于溶液、熔融、化学气相沉积等方法制作的晶体均可参赛。
[转帖]机械设计工程师专业技术人员继续教育科目指南
liulong84
21年0个月前
发表于电子技术
机械结构工艺设计;⑶成套项目中的工艺规程及其系统设计;⑷模具设计与加工;⑸产品工艺质量控制;⑹工艺装备设计;⑺表面工程(含自泳涂装、铝合金微弧氧化技术、高速燃气喷涂、热喷涂激光重熔复合技术、等离子体气相沉积技术
MPCVD工艺技术多因素研究
流落到四川
7年2个月前
发表于晶体养成所
化学气相沉积(chemical vapor deposition,CVD)技术已经广泛应用于实现短时间车、汽低成本的大面积金刚石的制备和掺杂,形成了以热丝、电子回旋共振、直流等离子喷射以及微波等离子体为主的一系列
电阻式随机存储器可望成为通用存储器
mass_lynnxy
18年0个月前
发表于电子技术
存储单元为金属—氧化物—金属三明治结构,可通过溅射、气相沉积等常规的薄膜工艺制备。二是擦写速度快。擦写速度由触发电阻转变的脉冲宽度决定,一般小于100纳秒,远高于Flash存储器。三是存储密度高。
铱铼复合材料在液机中的应用
helium
12年7个月前
发表于喷气推进
下图简要地说明了这种燃烧室的基本制造工艺,采用醋酸铱为原料,使用化学气相沉积(CVD)的方法,在铼上制备铱涂层,至于详细的制造方法与参数,我只找到几份资料。
你不知道的层流压差质量流量计
小德喵喵
5年9个月前
发表于仪器仪表
1、半导体行业用于扩散、氧化、外延、等离子刻蚀、溅射、气相沉积等工艺设备中,测量和控制工艺气体流量。2、食品、生物行业用于生产过程中的灭菌工艺、配料、配气、排气检测及生物反应器等流量测控。
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