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芯片制造的基本步骤 自制 MOS管制造NPN
窦若铭
57年7个月前
专栏文章
离子注入:在晶圆中植入离子,改变其导电特性,形成晶体管等元件。在离子注入中用到了磷酸溶液我们按照的实验结果分为了150度是浓度为60%。而且加热30分钟。浓度为50%,温度为130度。
芯片制造的基本步骤 自制 MOS管制造NPN
窦若铭
57年7个月前
专栏文章
离子注入:在晶圆中植入离子,改变其导电特性,形成晶体管等元件。在离子注入中用到了磷酸溶液我们按照的实验结果分为了150度是浓度为60%。而且加热30分钟。浓度为50%,温度为130度。
下一步打算画一个壳子,将各元件以及杂乱的导线收纳一下,做一下外观整理。目前做到700牛量程,并且可以在OLED上显示出实时推力、最大推力和大致推力曲线,曲线最高点为200牛。